產(chǎn)品介紹
電鍍涂裝行業(yè)中,，為了增加鍍件表面光潔度,、亮度、附著力,，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15us/cm以下的純水,，另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導(dǎo)率在10us/cm以下純水來(lái)清洗,，電鍍行業(yè)水處理系統(tǒng)包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用廢水零排放系統(tǒng),。通常系統(tǒng)由超濾裝置,，反滲透裝置，離子交換裝置,，edi裝置等組合而成,，以滿足電鍍行業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求。
電鍍涂裝用超純水設(shè)備也不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水,，對(duì)環(huán)境沒(méi)什么破壞性,，技術(shù)科學(xué)環(huán)保，自動(dòng)化程度高,，出水質(zhì)量高且可調(diào)整,。
ED超純水設(shè)備應(yīng)用
1、電子,、電力,、電鍍、照明電器,、實(shí)驗(yàn)室,、食品、造紙,、日化,、建材、造漆,、蓄電池、化驗(yàn),、生物,、制藥、石油,、化工,、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域,。
2,、化工工藝用水、化學(xué)藥劑,、化妝品等用純水制備,。
3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造,、半導(dǎo)體芯片,、半導(dǎo)體封裝 ,、引線柜架、集成電路,、液晶顯示器,、導(dǎo)電玻璃、顯像管,、線路板,、光通信、電腦元件 ,、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水,。
工藝設(shè)計(jì)
電鍍涂裝行業(yè)EDI超純水模塊（電除鹽）的工藝流程:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透主機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
設(shè)備特點(diǎn)
電鍍涂裝行業(yè)EDI超純水模塊（電除鹽）的優(yōu)點(diǎn)
1、不需要酸堿再生：電除鹽的操作安全的,，廢水的處理變得簡(jiǎn)單了,。
2、可連續(xù)生產(chǎn)：電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的,，免除了使用混床過(guò)程中復(fù)雜的再生操作,，減少了很多備用設(shè)備。
3,、不需要處理廢酸堿：沒(méi)有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng),。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進(jìn)口（EDI中濃水量比純水少得多）。
4,、安裝條件簡(jiǎn)單：電除鹽在安裝時(shí),，占地面積小，大部分標(biāo)準(zhǔn)廠房都能滿足,，對(duì)于較低的廠房,，可以通過(guò)對(duì)電除鹽模塊的水平配置解決。
5,、運(yùn)行成本低：電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比,，在價(jià)格上有競(jìng)爭(zhēng)性。
6,、水質(zhì)穩(wěn)定：電除鹽的出水質(zhì)量穩(wěn)定有把握,。不會(huì)有普通混床那樣的水質(zhì)變化。,?？傮w降低了總投資費(fèi)用
技術(shù)參數(shù)
1、給水：RO純水,，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm,。
2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下,，水硬度不能太高)
3,、溫度：5-35℃
4,、進(jìn)水壓力：最大為4kg/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi),。
5,、出水電阻率：1Ω·m~18.2Ω·m（常溫下20°C
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